Cosrx Hydrium Triple Hyaluronic Moisture Cleanser
Nazwa:
Cosrx Hydrium Triple Hyaluronic Moisture Cleanser
Marki:
CosrxKategorie:
Pianki do mycia twarzyAktywne komponenty:
Hyaluronic acid (Kwas hialuronowy)
Panthenol (Vitamin B5)
Omega fatty acids
AHA (Kwasy AHA)
Opis:
Pianka oczyszczająca z kompleksem kwasu hialuronowego Cosrx Hydrium Triple Hyaluronic Moisturizing Cleanser delikatnie i dokładnie oczyszcza skórę, eliminując wszelkiego rodzaju zanieczyszczenia, utrzymuje optymalny poziom wilgoci, zapobiega ściągnięciu i wysuszeniu. Chroni skórę przed negatywnym działaniem bieżącej wody, przywraca naturalny poziom pH oraz zapobiega odwodnieniu i odwodnieniu.
Skład:
Water, Glycerin, Stearic Acid, Myristic Acid, Lauric Acid, Potassium Hydroxide,Palmitic Acid, Potassium Cocoyl Glycinate, Coco-Glucoside, Glyceryl Stearate,Fragrance(Parfum), Polyquaternium-7, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Sodium Cocoyl Isethionate, Arachidic Acid, Disodium EDTA, 1,2-Hexanediol, Oleic Acid, Sodium Benzoate,Quillaja Saponaria Bark Extract, Citric Acid, Butylene Glycol, Panthenol, Hyaluronic Acid, Ethylhexylglycerin, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate
Hyaluronic acid (Kwas hialuronowy)
Hyaluronic acid (Kwas hialuronowy)
Hyaluronic acid (Kwas hialuronowy)